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產(chǎn)品中心

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PD-200C小型磁控濺射設(shè)備

產(chǎn)品摘要

PD-200C是我公司專為實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用需要而開(kāi)發(fā)的小型磁控濺射鍍膜試驗(yàn)平臺(tái)。該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源，濺射金屬、非金屬及化合物薄膜(如：ITO)等；廣泛應(yīng)用于科研院所、實(shí)驗(yàn)室制備單層或多層薄膜，以及新材料、新工藝研究。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn)：

★全不銹鋼真空腔室，保證系統(tǒng)的耐久性及操作安全性

★更的小體積，系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì)，可擴(kuò)展性高

★系統(tǒng)采用機(jī)械泵+進(jìn)口分子泵組成高真空系統(tǒng)，抽到工作高真空僅需15-20min，節(jié)省實(shí)驗(yàn)時(shí)間

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸（L×W×Hmm)：Φ220×H340（圓柱型）

★設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：600×600×1000

★基片臺(tái)：基片樣品臺(tái)加熱溫度室溫≤350°

★真空極限：（5E﹣05）Pa

★抽速保壓：（8E﹣04）Pa≤30min保壓12小時(shí)≤8pa

★托盤均勻性優(yōu)于±3％~±5%

★濺射靶槍兩個(gè)2英寸濺射尺寸2-3英寸

PD-200C小型磁控濺射設(shè)備

聯(lián)系方式

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